真空熱処理

Vacuum heat treatment furnace
表面の酸化や脱炭を防止光輝性と低歪みを実現
炉内部を真空状態にし、酸素濃度を下げる事で表面の酸化や脱炭を防ぎ、酸化膜ができず後処理の工程が少なくてすみます。また、硬さにムラもなく光輝性を持った仕上がりになります。
焼入れ・焼戻し、アニール処理、焼ナラシ、磁気焼鈍、固溶化・析出硬化処理など幅広く対応します。焼入組織を完全組織にするサブゼロ装置(-80°C)は2機設置しています。
着色しにくい2室タイプの真空炉を3機導入、自動倉庫→洗浄→焼入れ→焼戻し→自動倉庫による一連の作業を完全自動化。

真空熱処理炉

用途 真空焼入・焼戻、真空焼鈍、磁気焼鈍、
時効処理、溶体化処理
使用温度 常用550°C〜1250°C 最高1350°C
炉内有効寸法 450×650×500H
処理能力 200kg/Charge
冷却 N2ガスによる3(Bar)加圧冷却
2室タイプの真空炉で操業